RM6000Ⅱの後継機種として、更に高精度で高速な造形を実現させた次世代型光造形装置NRM 6000が製品の試作・開発過程におけるラピッドプロトタイピングを実現します。

新たに開発したスキャンシステムTSS4を搭載、従来(TSS2)と比べ、大幅な描画時間の短縮と軌跡精度の向上を実現。
高出力レーザ・高反応樹脂にも対応。

最新のレーザシステムを採用することで描画時間の大幅な短縮を実現。
繰り返し周波数が高い為、モデル物性/透明感についても向上しました。

泡のモデル混入を削減。トラップドボリューム(中海形状)に更に強く、大領域の塗りつぶしも可能。
形状によらず、常に同条件でリコーティングするため、安定したモデルを造形することができます。

新方式の液面制御システムの採用により従来方式と比べ樹脂のイニシャルコストを下げることに成功。
運用に応じ内容積を可変することで、高価な樹脂を状況に応じて最適に使用することが可能になりました。

樹脂からの揮発成分や外気からのホコリ等のコンタミが光学室に流入することを防ぐことによって、ミラーやレンズ等の光学系の汚れを防止。
光学系のメンテナンス頻度を大幅に減らしました。